薮田研究室

論文が掲載されました

ー　 Yifan Liu, Keita Katayama, Misa Beppu and Hisato Yabuta, “Thermal simulation of KrF excimer laser doping into β-Ga2O3 based on TCAD”, Japanese Journal of Applied Physics 65, 076502 (2026).
https://iopscience.iop.org/article/10.35848/1347-4065/ae54ee

研究室に新メンバーが配属されました！

ー　山本 龍之介(M1)
ー　安川 和輝(B4)
ー　櫻澤 虎太朗(B4)
ー　永田 章(B4)

NIMSとの共同研究に関する論文が掲載されました

ー　 Hirofumi Suto, Keita Katayama , Yohei Tanaka, Dolly Taparia, Nattamon Suwannaharn, Tomoya Nakatani, Taisuke T. Sasaki, Hisato Yabuta, Yuya Sakuraba, “Excimer-laser-annealing-induced crystallization and atomic ordering of Co2Mn0.5Fe0.5Ge Heusler alloy thin films for spintronic applications”, Journal of Applied Physics 139, 083903 (2026).
https://doi.org/10.1063/5.0304815

2026年第73回応用物理学会春季学術講演会（2026年3月15日(日)―18日(水)　東京科学大学大岡山キャンパス）にて研究発表を行います

ー　植月 (M1), 口頭講演, 3/15(日) 9:15, [15a-WL2_101-2] KrFエキシマレーザーアニールによるITO薄膜結晶化の基板依存性
ー　楢﨑 (M1), 口頭講演, 3/15(日) 15:30, [15p-S4_203-7] イオン注入法とKrFエキシマレーザーアニールを用いたSiへのBドーピング
ー　宮田 (M1), 口頭講演, 3/16(月) 14:00, [16p-S4_202-1] モルフォトロピック相境界付近における強誘電性BiFeO3-BaTiO3単結晶に対する三次元逆格子空間マッピング
ー　中村, 口頭講演, 3/17(火) 14:30, [17p-S4_202-3] YbH2±x膜の作成とその特性
ー　薮田, 口頭講演, 3/18(水) 11:30, [18a-WL1_201-8] KrFエキシマレーザーアニールによるITO薄膜の結晶化過程
ー　片山, 口頭講演, 3/18(水) 15:15, [18p-S4_201-6] KrFエキシマレーザーアニーリングにおける深さ温度制御

レーザー学会学術講演会第46回年次大会（2026年1月13日(火)―15日(木)　 大阪南港ATC）にて研究発表を行いました

ー　片山, 口頭講演, 1/14(水) 16:00, [D08-14p-VI-05] エキシマレーザーアニールによるamorphous-ITO薄膜の結晶化における蓄熱の効果

論文が掲載されました

ー　Misa Beppu, Yohei Tanaka, Keita Katayama, Hisato Yabuta, “Sn doping into β-Ga2O3 by a KrF excimer laser”, Applied Physics A 131, 441 (2025).
https://doi.org/10.1007/s00339-025-08550-7

公共財団法人JKA　2025年度 機械振興補助事業　研究補助に採択されました

　補助事業名(研究テーマ)： 「パルスレーザー原子層堆積法による多元素酸化物極薄膜/多層膜成膜の要素技術研究」補助事業

研究室に新メンバーが配属されました！

ー　高橋 俊大(B4)
ー　海地 博斗(B4)
ー　朱 家豪(Zhu Jiahao)(研究生)

2025年第72回応用物理学会春季学術講演会（2025年3月14日(金)-17日(月)　東京理科大学野田キャンパス）にて研究発表を行いました

ー　劉 一帆 (M1)　他.　 [15a-K403-6] SnO2薄膜を用いたβ-Ga2O3へのSnのレーザードーピング
ー　Hirofumi Suto (NIMS)　他.　 [15p-K303-5] Excimer laser annealing of Co2Mn0.5Fe0.5Ge Heusler alloy thin film for spintronic applications
ー　GUO DONGYANG (M1)　他.　[16p-K504-11] アモルファス酸化物薄膜のレーザー照射による結晶化機構の解明

semicon japan 2024 アカデミア（2024年12月11日(水)-13日(金) 東京ビッグサイト）に出展しました

　「レーザープロセスによるドーピング・材料改質技術の研究」
　東展示棟Hall7 アカデミアエリア / 小間7661

17th International Conference on Laser Ablation (COLA2024) @クレタ島（ギリシャ）のプログラムが公開されました

ー　別府(M2), Poster Session 2, 18:00-20:00, Tuesday 01/10/2024.　 “Sn doping into β-Ga2O3 by a KrF excimer laser”
ー　妹川(D1), Session 13, 16:30-17:30, Thursday 03/10/2024.　 “Demonstration of low contact resistance in SiC using high repetition rate KrF excimer laser irradiation”

大学見本市2024～イノベーション・ジャパン（2024年8月22日(木)-23日(金) 東京ビッグサイト）に出展しました

　「レーザー照射によるプラスチック上セラミックス膜形成・高機能化」
　 分野：カーボンニュートラル・環境 / 小間番号：C-002
　出展する技術についての概要はこちら

17th International Conference on Laser Ablation (COLA2024) @クレタ島（ギリシャ）

　2024年9月29日~10月4日に開催される、17th International Conference on Laser Ablation (COLA2024) @クレタ島（ギリシャ）にてD1妹川さん、M2別府さんがワイドバンドギャップ半導体へのエキシマレーザードーピング技術について発表しました。

HPを全面更新しました

　新メンバーが加わり新体制になりましたので、この機会にホームページを全面更改しました！